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半導體生產(chǎn)遇到的問題

隨著半導體制造工藝的發(fā)展,對生產(chǎn)環(huán)境要求越來越高,潔凈度達到千級百級。在以往人們只注意顆粒物的過濾處理,忽視了分子級的氣態(tài)污染物(AMC)的處理。AMC中的酸性氣體、堿性氣體、有機物、難熔性有機物和摻雜性有機物之間產(chǎn)生不必要的化學反應,影響晶圓表面和工藝設備的光學器件,從而在芯片生產(chǎn)過程中產(chǎn)生不良品,降低機臺設備的生產(chǎn)效率。然而高效HEPA或超高效ULPA粒子過濾器根本無法過濾掉有害氣體。

空氣中的塵埃粒子

有毒有害氣體

半導體車間氣態(tài)污染物來源

半導體制成需要使用各種化學工藝氣體,這些氣體也會隨著工藝的過程,由真空泵從反應腔體抽出,形成各種有毒有害的工藝尾氣;大量的酸、堿等化學品以及有機溶劑和揮發(fā)性液體等在半導體制成的不同工藝中使用,也產(chǎn)生有毒有害廢氣,半導體生產(chǎn)廠家需要對工藝廢氣進行有效的處理才能排入大氣中,確保安全的工作環(huán)境,保護周邊環(huán)境的安全。

酸性廢氣

來源于工藝流程中使用各種酸液對芯片的腐蝕、清洗過程以及擴散等工序,主要污染物為氟化物、氯化氫、氮氧化 物、硫酸霧等

堿性廢氣

來源于使用氨水、氨氣的刻蝕工序,主要污染物為NH3;有機廢氣:來源于清洗、勻膠、去膠、刻蝕、顯影工序使用有機溶劑清洗過程,主要成份為異丙醇、光刻膠等有機物

工藝尾氣

來源于擴散、離子注入和CVD 等工序使用的特殊氣體,如硅烷、磷烷、砷烷、乙硼烷(B2H6)等,除部分在工藝中反應消耗外,其余均以尾氣的形式排放

半導體車間廢氣治理方案

蝶萊半導體廠房廢氣處理裝置是非常高效的廢氣處理裝置,用于高效處理半導體制成產(chǎn)生的各種有毒有害廢氣,也可以與其他過濾系統(tǒng)配合使用作為精過濾段,過濾后的氣體濃度可以達到嚴格空氣質量標準,廣泛應用于微電子行業(yè)設施及工廠,滿足最嚴格的排放和法規(guī)要求。

在MAU (新風空調箱) 內加裝化學過濾器

在FFU(風機過濾機組)上方加裝化學過濾器

在室內放置化學空氣凈化機

潔凈室新風AMC 控制方法

在MAU (新風空調箱) 內加裝化學過濾器,過慮器內加載干式化學過濾材料, 高效吸收凈化有害氣體。

潔凈室循環(huán)風AMC控制方法

在 FFU (風機過濾機組) 上方加裝化學過濾器,過慮器內加載干式化學過濾材料,高效吸收凈化有害氣體。

空氣凈化機AMC控制方案

在潔凈室中使用蝶萊空氣凈化機,內部使用了化學過濾器和HEPA過濾器,高效吸收凈化有害氣體,可以有效保證制程環(huán)境潔凈度。

方案優(yōu)勢

過濾效率高

比普通活性炭更強的吸附能力,更長的使用壽命。

安全無害

化學吸附并反應,不可逆轉,產(chǎn)生無毒無害物質

廣譜

比一般的活性炭能夠去除更廣譜的氣態(tài)污染物

對比 普通過濾技術 化學過濾技術
濾料 活性炭 PureAir過濾材料
工作原理 物理吸附 化學吸附和反應
是否逆轉 可逆轉,產(chǎn)生臭味 不可逆轉,無異味,轉化為無害固件
可除污染物 VOCs(乙苯,二甲苯)、臭氧,對許多污染物無效 甲醛、二氧化硫、硫化氫等異味氣態(tài)污染物
物理特性 人造產(chǎn)品、無毒、可燃物質、在潮濕環(huán)境中易滋生微生物 定制產(chǎn)品、無毒無害、阻燃(UL認證)、防止細菌和真菌滋生
使用成本 單價便宜,但過濾效率低,更換周期短,經(jīng)常更換,多事費力 單價較高,但過濾效率高,更換周期長,如硫化氫處理量為普通活性炭23倍

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